1μm chất lọc kim loại cho quá trình tinh khiết khí bán dẫn ---Sản xuất Wafer với điều khiển AMC

Loại sản phẩm: Sợi ngắn thép không gỉ siêu mỏng 316L

Chiều kính sợi: 1um/1.5um/2um có sẵn

Chiều dài cắt: 80-100um

Thành phần hóa học của nguyên liệu thô ((Wt%))

Trong sản xuất bán dẫn, duy trì khí quá trình tinh khiết cực cao là rất quan trọng để ngăn ngừa lỗi và đảm bảo năng suất cao.m môi trường lọc kim loại đóng một vai trò quan trọng trong quá trình lọc khí bằng cách loại bỏ các chất gây ô nhiễm hạt trong khi cũng góp phần kiểm soát ô nhiễm phân tử trong không khí (AMC),cần thiết cho việc chế tạo wafer tiên tiến.

Các tính năng và lợi ích chính

Bộ lọc hiệu quả cao (1μm giữ lại)

Bắt được các hạt dưới micron có thể gây ra các khiếm khuyết trong quá trình chụp ảnh, khắc và lắng đọng.

Giảm nguy cơ ô nhiễm bề mặt wafer, cải thiện năng suất.

Chất hóa học trơ và chống ăn mòn

Được làm từ chất tinh khiết caoThép không gỉ (316L), niken, hoặc hợp kim ngâmcho khả năng tương thích với các khí hung hăng (ví dụ: HF, HCl, NH3).

Chống khí thải, ngăn ngừa ô nhiễm thêm.

Khả năng điều khiển AMC

Một số bộ lọc kim loại tiên tiến kết hợpPhương pháp xử lý bề mặt hoặc lớp phủ(ví dụ, thụ động, điện đúc) để giảm thiểu sự hấp thụ / khử hấp thụ các chất hữu cơ hoặc axit dễ bay hơi.

Giúp gặp gỡSEMI F21 AMC lớp 1các yêu cầu cho các quy trình nhạy cảm như EUV lithography.

Chống nhiệt độ và áp suất cao

Hiệu suất ổn định trong điều kiện khắc nghiệt (lên đến 500 °C hoặc cao hơn cho một số hợp kim).

Thích hợp choCVD, khuếch tán và cấy ghép ionđường dây khí đốt.

Thời gian sử dụng lâu và có thể làm sạch

Có thể tái sử dụng sau khi làm sạch (phương pháp siêu âm, hóa học hoặc nhiệt), giảm chi phí sở hữu.

Thiết kế giảm áp suất thấp để lưu lượng khí tiết kiệm năng lượng.

Ứng dụng trong sản xuất bán dẫn

Bán khí tinh khiết cực cao (UHP)(N2, Ar, H2, O2, v.v.)

Quá trình khắc và lắng đọng(CVD, PVD, ALD)

Photolithography(Môi trường EUV/DUV nhạy cảm với AMC)

Dầu rác & lọc tại điểm sử dụng (PoU)

Tại sao các bộ lọc kim loại hơn các phương pháp thay thế?

Độ bền vượt trộiso với các bộ lọc polymer (có thể phân hủy và thải ra các hạt).

Không bị rụng chất xơkhông giống như các bộ lọc HEPA/ULPA truyền thống.

Giảm AMC tốt hơnso với các bộ lọc hạt tiêu chuẩn.

Tuân thủ & Tiêu chuẩn

SEMI F20(Kiểm soát hạt)

SEMI F21(Tổ chức AMC)

ISO 14644-1(Tiêu chuẩn phòng vệ sinh)

Kết luận

Phương tiện lọc kim loại 1μmlà một giải pháp mạnh mẽ cho tinh khiết khí bán dẫn, kết hợplọc hạt, kiểm soát AMC và kháng hóa chấtđể đáp ứng các yêu cầu nghiêm ngặt của sản xuất wafer tiên tiến.